基準

ㅋㅋ

긴장감은 없었지만

그래도 정신적 스트레스였던 시험.

괜히 유기 듣는 바람에

혼자 늦게 끝나서 놀 사람이 없었다는게 에러.

하지만 그 전날 미리 다 놀아버렸네 ㅋㅋㅋ

이제 군대네. 운동도 하고 영어공부도 하고 살아야지.

우리 학교는 한 주에 시험 몰아서 보는 게 좀 힘들기도 하고

다른 학교는 좀 자주 본다던데....

우리 학교도 과목에 따라 바뀌긴 하지만,

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1. 읽지 않는다 …참고서, 메뉴얼 등을 읽지 않는다. 읽을 생각도 전혀 없다.
2. 조사하지 않는다 …인터넷 등에서 최소한의 내용도 스스로 조사하려고 하지 않는다.
3. 시험하지 않는다 …귀찮다, 등의 이유로 실행해보지 않는다. 할 생각도 없다.
4. 기억하지 않는다 …누군가에게 쉽게 들은 대답은 자기 것이 되지 않기에 문제해결 직후 잊어버린다.
5. 설명을 할 수 없다 …무엇이 문제인지, 제 3자에게 정확하게 전달할 문장을 쓸 수 없다.
6. 이해력이 부족하다 …아니, 이해력보다도, 이해하려고 하지도 않는다.
7. 사람을 이용하려고만 생각한다 …응석을 부리거나 억지로, 사람을 부려 임시로 그 문제만 극복하려고 한다.
8. 감사하지 않는다 …가르쳐주는 것은 당연. 일이 끝나면 굿바이~
9. 적반하장 …자신이 생각하는대로 안 되면 자기가 모르고, 잘못한 것임에도 도리어 화를 낸다.

출처 : http://newkoman.mireene.com/tt/2116

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저번 인텔 코어 i7 발표회 때도 SBS 개그맨 누군가가 게임 시연 게스트로 나왔었는데,

좀 진상 부려서 살짝 눈쌀 찌푸려진 적이 있었다.

오늘 보니 다른 SBS 개그맨 둘이 인터넷을 달구고 있다.

박광수 성추행 논란?

이건 뭐 상호 아는 사이고, 여자 쪽에서도 별거 아니다 란 반응이니

정말 그냥 논란일 뿐인 것 같은데,

그 영상 그냥 내보낸 쪽도 참 질타받아야 할 것 같다.

이상준 욕설 논란 -_-

싸이월드에 욕설을 썼다가 방명록에 항의 댓글 다니까 싸이를 닫았는데

싸이월드에 어떻게 그런 단어를 그냥 올려 놓을 수 있나....

웃찾사 안보는게 뭐 어때서-_-

웃찾사 예전에 개미 퍼먹을 때 쯤 열심히 보다가 가끔 어쩌다 보게 되는데

한참 전에도 했던 코너가 아직도 있어서 놀라기도 하고

웃음을 정말 뒤적뒤적 파서 찾아야 하는 사람들이나 보는건가.....

이제 T*OMNIA(이하, 톰니아) 에 대한 뽐뿌가 가시면서

눈에서 콩깍지가 벗겨지고,,,,

제품을 다시 보게 되었는데...

이런 손발이 오그라들게 하는 점이 떡하니 보이는 거다..

투데이 화면이....

디자인 개념은 어디로 갔나요~

제일 첫 화면을 저렇게 해 놓다니...ㅠ

정말 기계적 성능에다가 기본 어플만으로도 무궁무진 전지전능해서 좋은데 ㅠ

그냥 첫 화면만 좀 손봐줬으면 좋겠다 허허

그래도 구매하고픈 마음....

카메라 + 렌즈를 다 팔았다.

아직 부스러기인 GPS Tracker 나 무척 빠른 CF 카드가 남아 있긴 하지만.

이 돈을 잘 써야 할 터인데,

사려고 했던 똑딱이는 환율 올랐답시고 가격이 같이 오르고...

중고가도 같이 따라가 버린 듯 하고.....

이번에는 설날이 1월 말에 오는 것도 참 기쁜데...

우선 정리하니까 홀가분하고 좋다.

① Photolithography

           Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정이다. Photolithography 공정은 일반사진의 film에 해당하는 photo resist를 도포하는 PR 도포공정, mask를 이용하여 선택적으로 빛을 조사하는 노광공정, 다음에 현상액을 이용하여 빛을 받은 부분의 PR을 제거하여 pattern을 형성시키는 현상공정으로 구성된다.

           Photolithography 공정은 모든 공정 step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며, 향후 TFT 제작공정의 고정밀, 대면적화에 따라서 그 중요성이 더욱 커지는 공정이다.

           기본적인 공정은 figure 3.1과 같다. 각각의 step들을 살펴보면 다음과 같다.

           1) Coat – 이전 공정으로부터 만들어진 산화막이 생성된 wafer가 준비된다. Photolithography를 위해 wafer를 photoresist 막을 코팅을 해야 한다. 코팅 방법은 figure 3.2에 상세히 나와 있다.

           코팅 이후에는 박막의 adhesion을 단단하게 하고 습기(용매)를 날려내는 작업이 필요하지만 figure 3.1에는 생략되어 있다.

           2) Expose – Step2에서 UV 빛으로 IC pattern이 새겨진 유리를 통과하여 photoresist 위에 쬐어준다. 유리의 패턴은 투명한 부분과 불투명한 부분으로 이루어져 있다. 투명한 부분으로는 UV가 통과하여 wafer위의 photoresist에 화학 반응을 일으킨다. 불투명한 부분은 UV가 차단되어 반응이 일어나지 않는다.

           3) Develop – develop process동안 photoresist가 pattern대로 생성된다. photoresist에는 negative와 positive로 크게 두 가지 종류가 있다. Photoresist의 종류에 따라 develop 동안에 photoresist의 노출 된 부분이 제거되느냐 남아있느냐가 결정된다. Figure 3.3에서 positive와 negative photoresist의 차이가 나와 있다.

           4) Etch – figure 3.1의 4번째에 나와 있듯 pattern 모양으로 산화막이 제거된다. 이 과정이 photolithograpy에 있기 때문에 photoresist가 사용되는 것이다. Photoresist가 제거된 부분은 etchant에 의해 깎여나가게 된다.

           5) Strip – 마지막으로, figure 3.1의 5번째 과정에서 photoresist가 제거된다. wafer위에는 pattern 대로 생성된 산화막 만이 남음으로써 photolithography 과정이 완성된다.

출처 : 1999년 반도체 컨설팅 서비스 chapter 3

이전의 PDA 폰과는 다르게,

완전 프리미엄 폰에다가 가격도 고가.

ipod touch 가 있으니, 맥북 중고로 사면 66만원 정도니 더 좋지 않을까?

카메라 다 정리하고,

이제 군대 갈 준비를 착실히 해야겠다.

우선 기말고사 ㄱㄱ